碳化硅粉生产设备

西安博尔新材料有限责任公司SiC微粉新材料

一家专门从事高品质碳化硅(SiC)微粉和晶须及其下游制品等研发、生产、销售的国家级高新技术企业，自主发明实现工业化生产立方碳化硅(βSiC)微粉和晶须的专业企业。

碳化硅微粉的生产和应用亚菲特

碳化硅粉是冶金、建材和化工等行业制造高温炉、窑、坩埚等耐火材料的重要原料。碳化硅粉的耐高温性能超过 2000°C，适用于生产炉衬砖和炉衬板，可有效延长高温炉的使用寿命并降低生产成本。

首片国产 6 英寸碳化硅晶圆发布，有哪些工艺设备

2020年10月21日碳化硅粉料合成设备用于制备生长碳化硅单晶所需的碳化硅粉料,高质量的碳化硅粉料在后续的碳化硅生长中对晶体质量有重要作用。主要技术难点：高温高真空密封与控

晶彩科技张磊：超高纯碳化硅粉体制备及高端应用

2024年6月11日在国际上率先开发了“无催化引发聚合技术制备高纯碳化硅粉源”关键技术研究，研发的新材料成功应用于半导体制程所需的高精密特种碳化硅陶瓷件、半导体功率器件、集成电

碳化硅（SiC）粉体制备技术综述：从传统到前沿金蒙

其早期制备主要依赖于碳热还原法，即Acheson法，此法因原料成本低廉和工艺简便，成为工业化合成SiC粉体的基石。 1、固相法碳热还原法（Acheson法）由Acheson首创，通过高温下石

高纯碳化硅粉体合成方法及合成工艺展望化学搜狐

2020年8月21日碳化硅粉体合成采用高纯碳粉和硅粉直接反应，通过高温合成的方法生成。碳化硅粉体合成设备主要技术难点在于高温高真空密封与控制、真空室水冷、真空及测量系统、电

碳化硅原料合成炉 (100~150kg,电阻式)

碳化硅原料合成炉(100~150kg,电阻式) 采用电阻加热和改进的自蔓延高温合成法，合成可用于单晶生长的高纯SiC粉料的设备。

半导体碳化硅 (SiC) 关键设备和材料技术进展的详解；

2024年2月18日从SiC衬底、外延、芯片到模块,涉及单晶、切磨抛、外延、离子注入、热处理等关键装备,随着整体市场的蓬勃发展,设备需求迎来了机遇期。一、SiC 单晶生长设备 SiC PVT生长设备是国产化较高的设备,其难点在于需要解

最火的粉体之一碳化硅粉知乎专栏

晶彩科技6N碳化硅粉由于SiC粉体在单晶生长过程中发挥着重要作用，近年来，制备高纯的SiC粉体逐渐成为SiC单晶生长领域的研究热点。

碳化硅设备行业深度报告：多技术并行，衬底切片

2023年4月26日目前，意法半导体、丰田集团和电装集团等已实现 htcvd 规模化生产碳化硅晶体，国内江苏超芯星已研制出 htcvd 碳化硅单晶生长设备。 TSSG法有望成为制备大尺寸、高结晶质量且成本更低的衬底制备方法。

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我国半导体SiC单晶粉料和设备生产实现新突破

2018年6月6日我国半导体SiC单晶粉料和设备生产实现新突破 6月5日，在中国电子科技集团公司第二研究所（简称中国电科二所）生产大楼内，100台碳化硅（SiC）单晶生长设备正在高

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